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提高表面粘接、涂層附著力

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等離子清洗機氣體怎么選擇
來源: | 作者:深圳金徠 | 發(fā)布時間: 1477天前 | 1466 次瀏覽 | 分享到:

 等離子清洗機由于其自身的特點在很多產(chǎn)品生產(chǎn)的過程中都有一席用武之地。在等離子清洗機工作清清洗的過程中,需要配合著不同的氣體,才能將等離子清洗機的清洗效果達到最好。


  氣體的種類對等離子體的狀態(tài)起著決定性的作用,它直接影響了等離子體對高分子材料表面的改性方式和結(jié)果。等離子體表面處理一般采用非聚合性氣體,包括非反應性氣體和反應性氣體。


  非反應性氣體指He、Ar等惰性氣體,這類氣體的等離子體作用于材料時,惰性氣體原子并不與高分子鏈結(jié)合,等離子體表面處理而是對表面進行刻蝕和產(chǎn)生自由基,但當材料接觸空氣后表面的自由基會繼續(xù)與空氣中的活性氣體發(fā)生反應,生成極性基團。等離子體表面處理反應性氣體指一些無機氣體或易揮發(fā)的無機化合物,常用的有Ar、O2、N2、CO2、H2O、NH3、SO2等,與非反應性的惰性氣體不同,這類反應性氣體的等離子體作用于材料時,氣體原子可以與高分子鏈結(jié)合,形成相關的官能團。
 
  按氣體分成:最多使用的氣體之一就是惰性氣體氬氣(Ar),真空腔清洗過程中配合氬氣(Ar)往往可以有效得去除表面納米級污染物。經(jīng)常應用在引線鍵合,芯片粘接銅引線框架,PBGA等工藝中。
 
  如果想增強腐蝕效果,就請通入氧氣(O2)。通過配合氧氣(O2)在真空腔清洗,可有效的去除有機污染物,比如光刻膠等。通入氧氣(O2)比較多用于高精密的芯片粘接,光源清洗等工藝。
 
 還有一些比較難去除的氧化物可利用氫氣(H2)配合清洗,條件是要在密閉性非常好的真空情況下使用。還有一些特殊氣體類似于四氟化碳(CF4),六氟化硫(SF6)等,蝕刻和去除有機物的效果會更加顯著。但這些氣體的使用前提是要有絕對耐腐蝕氣路和腔體結(jié)構(gòu),另外自己要戴好防護罩和手套才能工作。
 
 最后要說的一種常用氣體就是氮氣(N2)。這種氣體主要是配合在線式等離子對材料表面活化和改性的應用。當然真空環(huán)境下也可以使用。氮氣(N2)是提高材料表面侵潤性的不二選擇。
 

 現(xiàn)在等離子清洗機通常為2路氣體,有時候我們會嘗試讓氣體去組合比例配合清洗,來達到不一樣的效果!


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