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真空等離子體發(fā)生器原理是真空等離子體，在真空室中被電離以形成等離子體的過程，氧和氬等離子體通常用于清潔、蝕刻或激活表面。

這些處理方法自 1970 年代初就已存在。它通常用作清除表面有機雜質(zhì)和污染物的方法。等離子還可用于蝕刻電路板等電子產(chǎn)品。該工藝在 40 至 300 mTorr 的等離子體室中進行，具體真空度取決于等離子體處理的所需結(jié)果。

真空等離子體發(fā)生器通常用于制造電子設(shè)備、醫(yī)療設(shè)備、紡織品、塑料、橡膠等。幾乎任何材料都可以在等離子體室中處理。

該技術(shù)能夠產(chǎn)生具有完全滲透產(chǎn)品能力的等離子體，允許處理內(nèi)部和外部表面，以改善粘合、印刷、噴漆、涂層或潤濕性。

空氣有很多我們?nèi)庋劭床坏接袡C表面污染物，它們會極大地影響物體與其他材料相互作用的能力。

深圳金徠的等離子處理系統(tǒng)能夠 100% 去除這些有機污染物,增加焊料或膠水的粘合強度，增加或減少潤濕性，并確保任何類型的印刷、油漆或涂層保留在物體表面。

3、此外，真空使我們能夠控制腔室中存在哪些氣體。這種控制對于我們的等離子工藝的可重復(fù)性至關(guān)重要。